Genève: Le Conseil de la Fédération luthérienne mondiale en session
Pour élire le nouveau secrétaire général
Genève, 21 octobre 2009 (Apic) Le Conseil de la Fédération luthérienne mondiale (FLM), principal organe directeur du rassemblement d’Eglises, se réunira dès le 22 octobre près de Genève. Il élira notamment le successeur à l’actuel secrétaire général de l’organisation.
Lors de la réunion du Conseil qui s’était tenue à Arusha, Tanzanie, en juillet 2008, le pasteur Ishmael Noko avait annoncé qu’il quitterait ses fonctions en tant que secrétaire général de la FLM fin octobre 2010.
Ishmael Noko est un théologien et pasteur ordonné de l’Eglise évangélique luthérienne du Zimbabwe. Il est devenu secrétaire général de la FLM en 1994 et a été réélu pour un second mandat en 2004. A ce jour, tous les dirigeants de la FLM ont été des hommes.
Le Conseil est responsable des affaires de la FLM entre les réunions de son organe directeur suprême, l’Assemblée, qui est organisée tous les six ou sept ans. Il est composé de 48 membres élus par l’Assemblée et il se réunit tous les 12 à 18 mois.
Le prochain secrétaire général de la FLM – rassemblement de 140 Eglises de la communion luthérienne dans 79 pays, représentant 68,5 millions de chrétiens – occupera le poste après la prochaine Assemblée de la FLM, qui se tiendra à Stuttgart en juillet 2010.
L’élection au poste de secrétaire général est prévue pour le 22 octobre, après la présentation du rapport du comité de sélection mis en place pour passer au crible les candidatures. A ce jour, le processus est resté confidentiel et aucun nom n’a été rendu public.
L’hebdomadaire luthérien finlandais Kotimaa avait fait état début octobre du mécontentement de certains membres de l’Eglise, selon lesquels le manque de transparence dans la procédure n’est pas un mode de communication adéquat à notre époque. Si le comité de sélection ne parvient pas à proposer un nom au Conseil le 22 octobre, le processus de sélection d’un nouveau secrétaire général pourrait être reporté, indique l’Agence ENI. (apic/eni/pr)
